در این پژوهش، پوشش تبدیلی نانوسرامیکی بر پایه اسید هگزافلوئورو زیرکونیک عاری از نمک‌های فسفات، بررسی شد. تأثیر مهم‌ترین عوامل فرآیندی از جمله pH محلول، زمان و دمای غوطهوری بر مقاومت به خوردگی و ریخت‌شناسی این نوع پوشش ارزیابی گردید. رفتار مقاومت به خوردگی پوشش تبدیلی نانوسرامیک بر روی زمینه فولادی در pH های مختلف محلول و دما و زمان‌های مختلف غوطهوری به کمک آزمون پلاریزاسیون مورد مطالعه قرار گرفت. آزمون پلاریزاسیون نشان داد در زمان غوطهوری 60 ثانیه، دمای غوطهوری 20 درجه سانتی‌گراد و 5=pH بهترین شرایط حاصل می‌گردد. ریخت‌شناسی سطح توسط میکروسکوپ نیرو اتمی (AFM) و میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FE-SEM) ارزیابی شد. تأثیر pH محلول بر ریخت‌شناسی سطح پوشش تبدیلی توسط میکروسکوپ نیرو اتمی بررسی شد و نتایج نشان داد پوشش تبدیلی به دست آمده در 5=pH ، یکنواخت‌تر و حاوی تجمعات ریزتری در مقایسه با 4.25=pH است. در نهایت نیز از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی مشخص گردید که با افزایش دما، اندازه ذرات و همچنین احتمال تشکیل ترک‌های ریز در پوشش تبدیلی بیشتر می‌شود و اندازه ذرات موجود در سطح پوشش به دست آمده در حدود 40 تا 60 نانومتر تخمین زده شدند.
دانلود فایل pdf این مقاله از اینجا
