در این پژوهش،
پوشش تبدیلی نانوسرامیکی بر پایه اسید هگزافلوئورو زیرکونیک عاری از نمکهای
فسفات، بررسی شد. تأثیر مهمترین عوامل فرآیندی از جمله
pH محلول، زمان و دمای غوطهوری بر مقاومت به خوردگی
و ریختشناسی این نوع پوشش ارزیابی گردید. رفتار مقاومت به خوردگی پوشش تبدیلی
نانوسرامیک بر روی زمینه فولادی در
pH های مختلف محلول و دما و زمانهای مختلف غوطهوری
به کمک آزمون پلاریزاسیون مورد مطالعه قرار گرفت. آزمون پلاریزاسیون نشان داد در
زمان غوطهوری 60 ثانیه، دمای غوطهوری 20 درجه سانتیگراد و 5=pH بهترین
شرایط حاصل میگردد. ریختشناسی سطح توسط میکروسکوپ نیرو اتمی (AFM) و
میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی
(FE-SEM) ارزیابی شد. تأثیر
pH محلول بر ریختشناسی سطح پوشش تبدیلی توسط
میکروسکوپ نیرو اتمی بررسی شد و نتایج نشان داد پوشش تبدیلی به دست آمده در 5=pH ، یکنواختتر و حاوی تجمعات ریزتری در
مقایسه با 4.25=pH است. در نهایت نیز از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی مشخص
گردید که با افزایش دما، اندازه ذرات و همچنین احتمال تشکیل ترکهای ریز در پوشش
تبدیلی بیشتر میشود و اندازه ذرات موجود در سطح پوشش به دست آمده در حدود 40 تا
60 نانومتر تخمین زده شدند.
دانلود فایل pdf این مقاله از اینجا