پوشش تبدیلی نانوسرامیکی بر پایه اسید هگزافلویوروزیرکونیک عاری از نمک های فسفات بررسی شد. تاثیر pH محلول بر رفتار مقاومت به خوردگی و ریخت شناسی این پوشش ارزیابی گردید. رفتار مقاومت به خوردگی پوشش تبدیلی نانوسرامیک بر روی زمینه فولادی در pH های مختلف محلول (5/3، 5/4 و 5/5) به کمک آزمون پلاریزاسیون (DC polarization) و طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) مورد مطالعه قرار گرفت. آزمون پلاریزاسیون نشان داد که در pH محلول برابر با 5/4 کمترین دانسیته جریان خوردگی و مثبت ترین پتانسیل خوردگی به دست می آید. نتایج آزمون طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی نشان داد که نمونه پوشش شده در pH محلول برابر با 5/4 بیشترین مقاومت پلاریزاسیون و کمترین ظرفیت خازنی را دارد. همچنین با توجه به نمودارهای بد مشخص شد که همین نمونه بالاترین زاویه فازی و امپدانس را دارد. ریخت شناسی سطح پوشش توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FE-SEM) ارزیابی شد. نتایج این آزمون نشان داد که با افزایش pH محلول از 5/3 به 5/4 مورفولوژی پوشش تغییر می کند. اندازه ذرات در سطح پوشش برابر با 40 تا 60 نانومترتخمین زده شدند.
دانلود فایل pdf این مقاله از اینجا
