خوردگی آهن
در محیط سدیم کلرید 6/0 مولار به روش های مختلف پلاریزاسیون آندی چرخه ای،
طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی، تافل، کرنوآمپرومتری و میکروسکوپ نوری
بررسی شد. منحنی های پلاریزاسیونی نشان دادند در حضور اکسیژن به-دلیل تشکیل
لایه شبه رویین بر روی سطح، خوردگی غیر یکنواخت محتمل بوده و با پیدایش حفرات
کم ثبات، دانسیته جریان آندی افزایش می یابد. از انجام مطالعات امپدانس در
پتانسیل های مختلف مشخص گردید که با افزایش پتانسیل اعمالی، به دلیل تشدید
میدان الکتریکی، جذب کلرید تقویت شده که در نتیجه آن مقاومت در برابر انتقال
بار تقلیل یافته و سرعت خوردگی افزایش می-یابد. تشکیل حفرات کم ثبات و ترمیم
مجدد سطح به صورت لوپ القایی مثبت ظاهر شده که این لوپ با پایداری و رشد
حفره، به لوپ القایی منفی تبدیل می شود. تجمع محصولات خوردگی در دهانه حفره
به صورت خط قایم در نمودار نایکوییست ظاهر و از طریق خازن سری با مقاومت تفسیر
گردید. بررسی های کرنوآمپرومتری در پتانسیل های مختلف نشان داد که به دلیل
تشکیل لایه محافظتی موقت بر روی سطح، جریان عبوری در مراحل اولیه خوردگی
کوچک بوده، ولی با پیدایش حفره با شتاب بیشتری افزایش می یابد. بین زمان
نهفتگی و پتانسیل اعمالی رابطه خطی به دست آمد و به کمک آن روش نظری برای
تخمین زمان لازم برای پیدایش اولین حفره پیشنهاد گردید. همچنین در محیط های
اشباع از نیتروژن با اعمال پتانسیل کاتدی، نیتروژن به درون شبکه فلز نفوذ
نموده و با تشکیل آهن نیتریده، سطح در برابر خوردگی رویین می گردد.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
دانلود فایل pdf این مقاله از اینجا